2027美国SPIE半导体会议_门票_时间_展位_展商 - 展查查 ExpoFinder

2027美国SPIE半导体会议

2027美国SPIE半导体会议

2027 SPIE Advanced Lithography + Patterning

面向半导体与微电子制造的光刻与图形化技术会议，聚焦光刻、量测、检测与工艺集成等前沿研究。

半导体光刻图形化半导体设备微纳制造

展会时间

展会时间：2027.02.21-02.25（共 5 天，周日-周四）

展会地点

展会地点：美国·圣何塞·圣何塞麦克纳里会议中心

官方网站

官方网站：

主办方

主办方：国际光学与光子学学会

展位咨询

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展会数据

3w+

展出面积(m2)

300

参展商(家)

2w+

专业观众(人)

参展产品

光刻设备与系统

光刻设备电子束光刻

图形化材料与工艺

图形化材料刻蚀技术与工艺集成

量测、检测与过程控制

量测与检测设备缺陷检测与过程控制

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展会地点

展会地点：美国·圣何塞·圣何塞麦克纳里会议中心

官方网站

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主办方

主办方：国际光学与光子学学会

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展出面积(m2)

300

参展商(家)

2w+

专业观众(人)

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